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更新时间:2026-10-10
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我司卡洛斯莫近期推出INFICON CDG015D陶瓷薄膜真空计。该产品采用数字电子技术与耐用陶瓷膜片相结合的设计,为要求苛刻的工业应用提供精确可靠的压力测量,具备IP65防护等级和标准4-20mA输出信号,可无缝集成到工业系统中,适用于熔炉、金刚石生长(CVD)、PECVD、冷冻干燥及一般前级压力测量等场景。
产品概述:CDG015D陶瓷薄膜真空计
CDG015D是一款紧凑型陶瓷薄膜真空计,核心传感元件为耐化学腐蚀的陶瓷膜片。陶瓷膜片相比传统金属膜片具有更优异的耐腐蚀性能,能够抵抗多种腐蚀性气体的侵蚀,适合半导体制造、真空镀膜等存在腐蚀性介质的工艺环境。产品采用2线电流回路接口,提供标准化的4-20mA输出信号,可与PLC、DCS及工业控制系统直接对接,简化系统集成。
核心特性与技术优势
陶瓷膜片耐化学腐蚀:采用耐化学腐蚀陶瓷传感器,相比金属膜片传感器,在接触腐蚀性气体和介质时具有更长的使用寿命和更稳定的测量性能,尤其适合CVD、PECVD等使用腐蚀性前驱体的工艺。
IP65防护适应恶劣环境:外壳防护等级达IP65,可防尘防潮,适用于工业现场存在粉尘、潮湿或轻微喷溅的环境,紧凑型设计节省安装空间。
一键归零校准:配备一键归零校准功能,操作人员可在现场快速完成零点校准,简化操作流程,提高设备准备就绪状态,减少停机时间。
标准化4-20mA输出:提供标准化的4-20mA电流输出信号,可直接接入工业控制系统,2线电流回路接口简化接线,降低集成复杂度。
数字电子技术保障一致性:将数字电子技术与陶瓷膜片传感元件结合,确保测量结果始终如一,长期稳定性好。
典型应用场景
熔炉与热处理:在真空熔炉、热处理炉中监测炉腔压力,陶瓷膜片耐受高温工艺中的腐蚀性气氛。
金刚石生长(CVD):在化学气相沉积金刚石生长过程中,精确测量腔体压力,耐腐蚀陶瓷传感器适应含碳气氛环境。
PECVD等离子体增强化学气相沉积:在半导体和镀膜工艺中,监测PECVD腔体压力,陶瓷膜片抵抗等离子体环境中的腐蚀性气体。
冷冻干燥:在制药和食品冷冻干燥过程中,监测冻干腔体压力,IP65防护适应洁净与潮湿环境。
一般前级压力测量:在真空泵前级管路中测量压力,为真空系统提供可靠的粗真空测量数据。
选型与配置建议
选型时需确认所需测量范围(具体量程请参考产品数据表)、过程连接规格及输出信号类型(4-20mA)。CDG015D适用于需要耐腐蚀、IP65防护及标准化电流输出的工业真空测量场景。安装时注意传感器安装位置应避免冷凝物积聚,对于腐蚀性工艺建议定期检查陶瓷膜片状态。一键归零功能建议在系统达到基础真空后操作,以确保零点准确。
如需获取更详细的工况选型建议,欢迎联系卡洛斯莫,专业技术团队将根据您的具体工况参数提供精准的选型建议,并协助完成从产品安装到后期维护的全周期服务。
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